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【央视新闻客户端】
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2026年1月8日，中微公司（688012.SH）发布了一则公告：公司董事长、总经理尹志尧拟于1月30日至4月29日减持0.046%股权，原因是由于其从外籍恢复中国籍，出于依法办理相关税务需要而进行的减持。截至1月9日收盘，中微公司股价报336.68元/股，总市值为2108亿元。尹志尧拟减持股票市值约为9764万元。
一纸公告，将即将82岁的尹志尧和中微公司推至台前，引起市场关注。目前，尹志尧持有中微公司0.664%股权。
截至1月16日收盘，中微公司市值超2300亿元
对于尹志尧而言，从2004年创办中微公司到今天，他用了20多年将这家公司从零打造成全球领先的微观加工设备巨头，在刻蚀领域足以与应用材料、泛林半导体等国际大鳄分庭抗礼。
而在20年前，人们普遍不觉得在技术壁垒极高、被美日巨头绝对垄断的半导体高端制造设备领域，一家中国初创公司能有生存空间。但尹志尧改变了整个行业的看法。
目前的中微公司，市值已经高达2361亿元（截至2026年1月16日）。中微公司最新披露的三季报显示，2025年前三季度，公司实现营业收入80.63亿元，同比增长46.40%；实现归属于上市公司股东净利润12.11亿元，同比增长32.66%。
（图片来源：中微公司）
60岁创办中微公司
1944年出生的尹志尧，1956年考入北京市第四中学，与中芯国际前董事长江上舟为校友。在经历了中国科学技术大学化学物理学士学位、北京大学化学系就读研究生的学术历练后，尹志尧在二十世纪八十年代踏上硅谷。
那时正是张忠谋在德州仪器崭露头角、英特尔确立半导体霸权的黄金时代，尹志尧先后在英特尔、泛林半导体和应用材料等半导体巨头工作了近20年，他亲手参与了多代刻蚀机的研发，是几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用的推动者之一，这些机器如今仍有在全球各地的生产线上运作。
刻蚀，是芯片制造三大核心工艺（光刻、刻蚀、薄膜沉积）之一。就像光刻机被视为半导体制造突破先进制程的关键设备，台积电、中芯国际、海力士等晶圆制造巨头在推进更先进的制程时，必须依赖高精度的等离子体刻蚀技术，在硅片上雕琢出数以百亿计、深宽比极大的微观沟槽。
凭借自己的勤奋和聪明，在泛林半导体，尹志尧主导研发的“彩虹号”电容性介质等离子体刻蚀机，助力泛林半导体确立了市场和技术领先；在应用材料，他作为企业副总裁、刻蚀产品事业部总经理、亚洲总部首席技术官，几乎参与了当时最重要的几代刻蚀设备研发。
在硅谷的20年里，尹志尧个人拥有超过80项美国专利，被公认为等离子体刻蚀技术领域最有影响力的专家之一。
如果说光刻是在硅片上画出极其精细的电路图纸，那么薄膜沉积就是负责在硅片表面铺上一层薄膜，刻蚀则在硅片上雕刻出微观的沟槽，按照图纸去掉不该有薄膜覆盖的地方，随着芯片制程从28纳米向更先进制程演进，这种微观雕刻的难度呈几何级数增长。
在总结刻蚀工艺在芯片制造中的核心地位时，尹志尧解释说，实现极高精度的“微观雕刻”能力对于半导体产业跨越物理极限至关重要。从早期的65 纳米、40纳米，到如今攻坚的5纳米、3纳米，每一代制程的演进都离不开刻蚀机的精准作业。
他将微观加工比作“剪窗花”：薄膜沉积负责提供“红纸”，光刻机负责在纸上画出“花纹”，而等离子体刻蚀机则充当那把极其精密的“剪刀”，负责去掉不该有的部分，最终刻画出一层层的微观结构。
尽管光刻机始终被视为三大工艺的“老大”，但随着制程进入14纳米以下，即使是极紫?br class="dtyuzwezeryf41c20c8a475e63c yiyixunlongweixingbdd4e717a0512b0fdiandongyashuabao88 Apple-interchange-newline" />
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